多用爐內對材料真空熱處理的保護作用

      對于很多材料在非真空爐內加熱除了要生成氧化物、氫化物、氮化物外，非真空電爐中加熱的材料還會吸收氣體并向內部擴散，使材料的性能嚴重惡化。這些氧化、還原、脫碳、增碳、吸氣甚至產生腐蝕等弊病，有時在可控氣氛爐或者鹽浴爐中也難以避免，而真空熱處理爐可以在很多時候避免這些弊病。

      真空熱處理實質上是在極稀薄的真空爐氣氛中進行熱處理，真空電爐內氣體分析表明，真空爐內殘存的氣體是H2Q、O2、CO2以及油脂等有機物蒸汽。真空爐內由于這些氣體的含量非常少，其分壓力很低，不足以使被處理的材料產生氧化、還原、脫碳、增碳等反應，所以材料表面的化學成分和原來的表面光亮度可保持不變。

      真空爐內高真空有兩個特點：

      1、高真空氣氛的化學活性極低，因此，利用真空電爐進行熱處理爐時，氣相與固相界面上發生的反應，如氧化、還原、脫碳、增碳等，不會進行到有影響的程度；

      2、多用爐內的高真空氣氛使氣體體積增大的變化非常迅速，可使材料放出溶解的氣體或者氧化物發生分解。正是由于真空爐內高真空氣氛的這兩個特點，在真空電爐高真空氣氛中，氧分壓很低，氧化作用被抑制。因此，為了達到無氧化的目的，必須是真空爐內氧的分壓力低于氧化物的分解壓力。